溅射靶材主要是指纯度很高的金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积工艺，是制备电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，大家在选购溅射靶材技术的时候，要考虑的因素有很多，例如溅射靶材技术的质量、价格等等。下面给大家介绍一下溅射靶材技术公司排名。
在溅射镀膜时，靶材的质量、制备条件、设备清洁度等因素均会影响薄膜的质量。其中溅射靶材是比较重要的一环，会从根源上影响生长薄膜的质量。故选购比较好的靶材是薄膜材料研究人员重要的工作之一。溅射是薄膜制备中较为成熟的技术之一，应用范围广，工艺较为简单，是许多薄膜功能材料科研人员采用的薄膜制备技术。
溅射靶材的质量是由纯度、致密度、是否单相这三个指标来评判的。而纯度越高、使用更复杂的生产加工工艺或选择成本更高的原料则使靶材价格水涨船高，溅射靶材的尺寸也因使用原料的数量也会对靶材的价格产生影响。那如何在保证质量的同时购买价格合适的溅射靶材呢？下面以皮埃路电子技术有限公司生产的DyScO3陶瓷靶材为例，对溅射靶材价格进行介绍。
本文以皮埃路电子技术有限公司生产的DyScO3陶瓷靶材为例，为大家具体讲述它的参数规格和制备方法。
1. 陶瓷靶材制备方法：采用百分之99.9纯度ScO3、百分之99.99纯度 Dy2O3粉末, 按化学计量比配料，球磨5至8小时后混合均匀，在大于1400度通过热压烧结制备陶瓷靶材。
2. 陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米；靶材价格通常在3500元及以上
如有想要专业定制溅射靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。
皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。
如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学者提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD、SEM和AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在百分之99.9以上，部分靶材的原材料纯度可以实现百分之99.99。靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！
