关于光学镀膜靶材，大家了解多少呢？光学镀膜靶材应该如何进行选择呢？下面由专注于光学镀膜靶材研发生产的南京皮埃路电子技术有限公司总结了相关的内容与大家分享。并且给大家介绍一下光学镀膜靶材怎么选。

随着科技的发展，人们发明了多种制膜的技术方法，比如真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶-凝胶法等。但由于其各有局限性，仍不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展，特别是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光镀膜技术的特点逐渐被人们认识和接受 。光学镀膜技术相比较其他的薄膜制备技术有激光能量高、薄膜的化学成分比与靶材一致、沉积速率高、基片温度要求低等多种优点。

光学镀膜靶材种类众多，按照化学成分不同可分为金属靶材（纯金属铝、钛以及铜、钽等）、合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。专业靶材研发生产的南京皮埃路围绕BiFeO3陶瓷靶材为大家介绍其特点以及制备方法。BiFeO3(铁酸铋)作为一种新型的多铁材料是制备多铁薄膜材料的理想靶材。BiFeO3也是一种典型的铁电磁材料，因为室温下共存的铁电性与磁性以及在新型存储器件，自旋电子器件方面都有广泛的应用前景而备受关注。

下面是皮埃路电子技术有限公司生产的BiFeO3陶瓷靶材的参数规格和制备方法。

1、陶瓷靶材制备方法：采用百分之99.9纯度Fe2O3、百分之99.9纯度 Bi2O3粉末, 按化学计量比配料，球磨5至8小时后混合均匀，在大于700度下通过常压烧结制备靶材。

2、陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，价格大于等于2千元。

想要购买激光镀膜靶材的客户欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。

皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品，皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为大家定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的高纯溅射靶材、也可以组织专家学者提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD及SEM、AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在百分之99.9以上，部分靶材的原材料纯度可以实现百分之99.99。另外靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！