作为一种重要电子原料，氧化铟锡靶材有着很好的特性。但是大家对氧化铟锡靶材的具体特点了解吗？氧化铟锡靶材真的有毒吗？下面南京皮埃路电子技术有限公司就给大家介绍一下氧化铟锡靶材的相关信息，希望能够帮到大家。

氧化铟锡(ITO，或者掺锡氧化铟)是一种铟（III族）氧化物(In2O3) 和锡（IV族）氧化物(SnO2)的N型氧化物半导体，通常质量比为百分之90In2O3，10 SnO2。它在薄膜状时，透明，略显茶色。在块状态时，它呈黄偏灰色。世界卫生组织国际癌症研究机构公布的致癌物清单初步整理参考，氧化铟锡在2B类致癌物清单中。

氧化铟锡主要的特性是其电学传导和光学透明的组合。然而，薄膜沉积中需要作出妥协，因为高浓度电荷载流子将会增加材料的电导率，但会降低它的透明度。氧化铟锡薄膜通常是物理气相沉积、或者一些溅射沉积技术的方法沉积到表面。因此氧化铟锡薄膜质量的好坏和靶材的质量具有密切的相关性。

本文以南京皮埃路电子技术有限公司生产的ITO陶瓷靶材为例为大家介绍一下陶瓷靶材工艺。

1.     陶瓷靶材制备方法：采用百分之99.9纯度In2O3、百分之99.99纯度SnO2，按化学计量比配料，球磨混合均匀，在大于1300度下通过常压烧结制备靶材。

    2.    陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，价格≥2千元。

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皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品，皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为大家定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的高纯溅射靶材、也可以组织专家学者提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD及SEM、AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在百分之99.9以上，部分靶材的原材料纯度可以实现百分之99.99。另外靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！